阳极层离子源连续镀板设备

韩国连续镀板设备阳极层离子源清洗

1 输入电压 380V 10%三相四线 50-60Hz

2 输出特性 调流调压

3 输出空载电压 DC 1500V /3000V

4 输出电流 可根据客户需求选择

5 负载持续率 100%

6 整机效率 88%

7 功率范围 可根据客户需求选择

8 工作真空度 2×10-2~6×10-1 Pa

9 离子源尺寸 可根据客户需求定制

10 均匀性：±10%

11 离子束流 ：10-35mA/cm

12 阴极间隙宽度:2.5-3mm

13 适应气体：氩气、氦气、氢气、氧气、氮气、乙炔等等

14 气体流量：1-4sccm/cm(设备抽速)

阳极层离子源可用于离子蚀刻，离子清洗、活化和强化材料表面、消除静电、辅助镀膜等作用。

也可直接镀DLC（类金刚石）、光学膜和氧化膜等。

特性：

    依据阳极层线性封闭漂移理论，气体在离子中的阴阳极之间通过，其阳极的正电压与加在内外阴极端部间的强磁场相互作用，产生等离子体，来自于等离子体中的离子受阳极电场的驱动，由离子源中产生喷出的离子束流。

    可作为基片表面的清洁离子清洗源。可在柔性基片上直接镀DLC和光学膜、氧化物、氮化物等作为磁控溅射过程中的离子辅助沉积。低气压、低电压、高束流。阳极膜离子源产生的低能量、大束流的离子束可以有效去除基片表面的有机污染物和氧化层，增加薄膜的附着力，同时避免对基片轰击时造成损伤(如平板显示器镀膜、柔性基材镀膜)。

    无灯丝、栅极及中和栅、可长时间稳定运行和生产。非常高的平均无故障时间和极地的维护成本。由于阳极膜离子源无需灯丝，空心阴极等电子中和器而且水冷完全，所有其对镀膜环境的温度改变很小。这个特性对温度敏感基片的镀膜非常有利。同样道理，没有电子中和器使其可以长时间免维护工作。